近日,我院博士研究生谢政道在国际知名杂志《自然·电子学》(Nature Electronics)上,在“新闻和观点”(news &views)栏目下,发表《Ultrathin dielectrics for 2D devices》,谢政道为本文的第一作者。
本文介绍了超薄二维材料作为晶体管电介质层的最新研究进展。运用原子沉积法(ALD)将单层10-四羧酸二酐(PTCDA)用作种子层覆盖整个在二维材料表明,并用自限外延技术,构建了HfO2/PTCDA/2D结构,其中HfO2的厚度为1nm等效氧化物厚度(该尺寸表示SiO2产生等效电容的厚度),实现了超薄电介质的构造。运用该技术制备的MoS2和WSe2的二维晶体管的亚阈值摆幅接近60mV/dec,工作电压低至0.8V,具有良好的电学性质。
原文链接:https://www.nature.com/articles/s41928-019-0344-9
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2019-12-25
作者:综合办
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